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高纯水设备,电子级纯水设备,去离子水设备,电子级高纯水设备,工业超纯水设备
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高纯水/超纯水设备

EDI 设备连续电除盐(EDI,Electro deionization),是利用混和离子交换树脂吸附给水中的阴阳离子,同时这些被吸附的离子又在直流电压的作用下,分别透过阴阳离子交换膜而被除去的过程。这一过程离子交换树脂是电连续再生的,因此不需要使用酸和碱对之再生。这种新技术可以替代传统的离子交换(DI)装置,生产出电阻率≥15MΩ.CM 的超纯水。
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产品详情

水质标准:


电子工业纯水系统设计规范                        GB50685-2011

中国电子级水质技术指标                          GB/T11446.1-2013

电子级水测试方法通则                            GB/T 11446.3-2013

电子级水电阻率的测试方法                        GB/T11446.4-2013

电子级水中痕量金属的原子吸收分光光度测试方法    GB/T114465-2013

电子级水中痕量阴离子的离子色谱测试方法          GB/T11446.72013

电子级水中总有机碳的测试方法                    GB/T 11446.8-2013

电子级水中微粒的仪器测试方法                    GB/T 11446.9 -2013

电子级水细菌总数的滤膜培养测试方法              GB/T 11446.10-2013


高纯水和超纯水应用行业:


◆半导体行业:用于晶元6~12寸切割、清洗、再生、封测用水、半导体设备清洗、电子级无尘布无尘服清洗。

◆太阳能光伏行业:单晶硅、多晶硅切片清洗、太阳能电池、石英坩埚、多晶硅方舟、光伏玻璃、高纯硅粉

◆LCD、LED、OLED生产清洗用水,光学摄像头清洗,光学材料清洗,导电玻璃清洗;

◆半导体集成电路板,线路板生产清洗用超纯水;

◆锂电池材料(磷酸铁锂、三元材料、锂电池隔膜)、蓄电池、锌锰电池生产用水

◆电子级超纯化学试剂用纯水,纳米级电子陶瓷材料纯水、尖端磁性材料用纯水、有色金属、贵金属冶炼用水、航空新材料生产用水、电容器材料腐蚀化成工艺用水。

EDI电除盐系统

EDI 设备连续电除盐(EDI,Electro deionization),是利用混和离子交换树脂吸附给水中的阴阳离子,同时这些被吸附的离子又在直流电压的作用下,分别透过阴阳离子交换膜而被除去的过程。这一过程离子交换树脂是电连续再生的,因此不需要使用酸和碱对之再生。这种新技术可以替代传统的离子交换(DI)装置,生产出电阻率≥15MΩ.CM 的超纯水。

离子交换膜和离子交换树脂的工作原理相近,可以选择性地透过离子,其中阴离子交换膜只允许阴离子透过,不允许阳离子透过;而阳离子交换膜只允许阳离子透过,不允许阴离子透过。在一对阴阳离子交换膜之间充填混合离子交换树脂就形成了一个 EDI 单元。阴阳离子交换膜之间由混合离子交换树脂占据的空间被称为淡水室。将一定数量的 EDI 单元罗列在一起,使阴 离子交换膜和阳离子交换膜交替排列,在离子交换膜之间添加特殊的离子交换树脂,其形成的空间被称为浓水室。在给定的直流电压的推动下,在淡水室中,离子交换树脂中的阴阳离子分别向正、负极迁移,并透过阴阳离子交换膜进入浓水室,同时给水中的离子被离子交换树脂吸附而占据由于离子电迁移而留下的空位。事实上离子的迁移和吸附是同时并连续发生的。通过这样的过程,给水中的离子穿过离子交换膜进入到浓水室被去除而成为除盐水。带负电荷的阴离子(例如 OH-、Cl-)被正极(+)吸引而通过阴离子交换膜,进入到邻近的浓水室。此后这些离子在继续向正极迁移中遇到邻近的阳离子交换膜,而阳离子交换膜不允许阴离子通过,这些离子即被阻隔在浓水中。淡水流中的阳离子(例如 Na+ 、H+)以类似的方式被阻隔在浓水室。在浓水室,透过阴阳膜的离子维持电中性。EDI 组件电流量和离子迁移量成正比。电流量由两部分组成,一部分源于被除去离子的迁移,另一部分源于水本身电离产生的H+和OH-离子的迁移。在 EDI 组件中存在较高的电压梯度,在其作用下,水会电解产生大量的H+和 OH-。这些就地产生的 H+和 OH-对离子交换树脂有连续再生的作用。EDI 组件中的离子交换树脂可以分为两部分,一部分称作工作树脂,另一部分称作抛光树脂,二者的界限称为工作前沿。工作树脂承担着除去大部分离子的任务,而抛光树脂则承担着去除弱电解质等较难清除离子的任务。 


EDI的特点

1、无须用酸碱再生、无须酸碱储备和酸碱稀释运送设施、使用安全可靠,避免工人接触酸碱

2、节省了再生用水及再生污水处理设施

3、降低了运行及维护成本

4、占地面积小、安装简单、产水率高(可达90-95%)

5、连续运行、产品水水质稳定、不会因再生而停机

超纯水制取工艺推荐:

1、一级RO+EDI+抛混:产水电阻率≥18MΩ.CM(25℃),其余指标符合电子级超纯水规范

源水→源水箱→增压泵→砂滤器→炭滤器→软化器/阻垢剂→保安过滤器→高压泵→一级反渗透→一级水箱→增压泵→精滤器→EDI电除盐装置→超纯水箱(建议氮气保护)→输送泵→抛光混床→UV/TOC→精滤器→用水点→回水(建议管道循环、无死水)

注意:该工艺要求原水水质情况较好、否则可能会对EDI电除盐系统造成不可修复损伤


2、二级RO+EDI+抛混:产水电阻率≥18MΩ.CM(25℃),其余指标符合电子级超纯水规范

源水→源水箱→增压泵→砂滤器→炭滤器→软化器/阻垢剂→保安过滤器→高压泵→一级反渗透→一级水箱→PH调节→高压泵→二级反渗透→二级水箱→增压泵→精滤器→EDI电除盐装置→超纯水箱(建议氮气保护)→输送泵→抛光混床→UV/TOC→精滤器→用水点→回水(建议管道循环、无死水)

注意:如微粒子要求与TOC要求较高,建议后段设置脱除微粒子与TOC指标的专用超滤UF膜

 

3、盘滤+UF+二级RO+EDI+抛混:产水电阻率≥18MΩ.CM(25℃),其余指标符合电子级超纯水规范

源水→源水箱→增压泵→盘滤→袋滤→超滤UF→超滤水箱→中间泵→保安过滤器→高压泵→一级反渗透→一级水箱→PH调节→高压泵→二级反渗透→二级水箱→增压泵→精滤器→EDI电除盐装置→超纯水箱(建议氮气保护)→输送泵→抛光混床→UV/TOC→精滤器→用水点→回水(建议管道循环、无死水)

注意:如微粒子要求与TOC要求较高,建议后段设置脱除微粒子与TOC指标的专用超滤UF膜

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